赛多利斯电子天平都是具有相对应的证书，在购买电子天平的时候，可以向销售索要，各种精度都有，制药企业对电子天平的选择时很细心的，文中讲述赛多利斯电子天平在食品制药企业中的应用。
一、食品制药企业选择及使用电子天平适用标准及规范
1. 《中国药典》（2010 版）第四十一章“电子天平”，主要规定天平取样量的准确度和试验的精密度。
2. 《USP40-NF35 美国药典》（2017 版）第 41 章“天平”，主要规定天平的量程或最佳操作范围，即天平最小样品重量至最大秤量。对于在美国制造和销售的药物和相关产品而言，USP-NF是唯一由美国食品药品监督管理局 (FDA) 强制执行的法定标准。此外，对于食品制药和质量控制所必需的规范，例如测试、程序和合格标准，USP-NF还可以作为明确的逐步操作指导。
3. 《GMP 药品生产质量管理规范》（2010 版）第五节 。强制性标准，要求食品、制药等生产企业应具备良好的生产设备，合理的生产过程，完善的质量管理和严格的检测系统，确保最终产品质量（包括食品安全卫生）符合法规要求。
4. 《GLP良好实验室操作规范》，主要是针对医药、农药、食品添加剂、化妆品、兽药等进行的安全性评价实验而制定的规范，符合 GLP 实验室要在调校量程为 0～10% 测定器的基本误差时，可参照上述原理，将第一条干涉条纹调至与分划板零位刻度线重合，如第五条干涉条纹与 7.00% 的甲烷含量刻度线重合，则确定其示值误差合格。
二、干涉条纹常见问题处理
通过对测定器光干涉原理的分析，在调校光路过程中，干涉条纹在加压后出现条纹向相反方向移动，则可判定平面镜倾斜角向前，调整平面镜倾斜角即可解决。干涉条纹倾斜时，其平面镜及折射棱镜位置摆放正确，则调节反射棱镜或其底座，使光平行返回，使干涉条纹复原。分划板上成像不清晰或干涉条纹间的宽窄不符合要求时，调节物镜的前后位置改变成像距离 L，可在小范围内调节光干涉条纹之间的宽窄。向光来的方向移动可以使条纹间距变宽，反之移动条纹间距变窄，同时成像清晰度改变。通过对光干涉甲烷测定器原理的分析，能帮助我们解决有时难以处理但实际较常遇到问题，从而确保测定器调校工作的顺利完成。
以上内容仅供参考。
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